表面扩散描述的是原子、离子、分子和原子团在固体表面沿表面方向的移动。这种扩散现象通常发生在固体表面存在化学势梯度场、扩散物质浓度分布不均或者样品表面形貌发生变化的情况下。表面扩散局限于距离表面约2～3个原子层的区域，其范围大约为单位面间距，即2×10^-8厘米左右。值得注意的是，表面扩散不仅受温度、气压、湿度和气氛等外部因素的影响，还与晶面取向、表面化学成分、电子结构以及表面势等内在因素密切相关，因此其行为复杂多变。

体扩散，也被称为点阵扩散或晶内扩散，是原子在晶体内部通过点阵内热运动而引起的扩散过程。其主要机制是通过空位进行扩散。与表面扩散不同，体扩散不局限于晶体表面，而是在整个晶体内进行。体扩散在材料科学中起着至关重要的作用，特别是在材料的热处理、相变以及腐蚀等过程中的扩散行为研究中。

两种扩散方式各有特点，表面扩散主要发生在固体表面，受多种外界和内在因素影响，而体扩散则深入晶体内部，主要通过空位机制进行。了解这两种扩散方式的区别及其影响因素对于材料科学和工程领域的研究具有重要意义。

在实际应用中，体扩散和表面扩散的共同作用常常决定着材料的性能。例如，在金属加工过程中，体扩散会影响材料的均匀性，而表面扩散则可能影响表面的耐腐蚀性。因此，精确控制这两种扩散方式对于改善材料性能至关重要。

研究和掌握体扩散与表面扩散的区别及其条件，有助于我们更好地理解和预测材料在不同条件下的行为，进而开发出性能更优的新材料。