一般在0.3-0.6就差不多了，

膜的厚度和溅射产额，沉积时间，靶于基材（衬底）的距离（60mm-120mm左右）的关系很紧密

一般在磁控溅射中，只要靶能正常起辉 真空度越高越好。（因为靶电压很高，溅射产额就高。）